等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好,磁控设备用都可以.为什么.哪位大侠帮个忙我只加了氩气，辉光就不正常，等离子区向下，不加偏压，基片接地才能正常起辉

来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/11/08 09:04:19

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等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好,磁控设备用都可以.为什么.哪位大侠帮个忙
我只加了氩气，辉光就不正常，等离子区向下，不加偏压，基片接地才能正常起辉。什么原因

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你放电装置出现的问题在于：
采用了DC放电,需要电流回路.
DC放电的高压电极为负压,当基片加置负偏压时,DC电源（用于放电那个）不同通过基片分支放电,由此出现你所说的不能起辉.
你这种放电方式可以实现所谓的不等位辉光放电（太原工学院,徐重教授专利）,实际上是变形的空心阴极放电,可以实现高放电电流工作.
你目前没有获得这种有益效应,可以如下尝试：
（1）先启动DC放电并保持偏压电源输出（偏压电源是否对地输出?）为零,达到放电最高功率后,再开启偏压电源；
（2）控制装置地,用绝缘物覆盖靠近电极附近的金属腔体,使放电回路向下延伸；
（3）提高偏压电源输出电压、功率,电压绝对值低于DC放电电压,二者形成不等位的空心阴极放电.

谁知道等离子体辅助化学气相沉积（PECVD)英文全称是什么? 等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好,磁控设备用都可以.为什么.哪位大侠帮个忙我只加了氩气，辉光就不正常，等离子区向下，不加偏压，基片接地才能正常起辉 磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别? 有没有GS400-2型等离子体增强化学气相沉积设备?什么地方产的?价格是多少? 物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别 气相沉积 化学气相沉积中典型的化学反应有哪些? 解释一下化学气相沉积法制备纳米材料 请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用?请问CVD（化学气相沉积）镀膜的原理及应用? 太阳能电池片等离子体化学气相沉积法（PECVD）中的工艺问题!1,温度对硅片的影响!2,时间对硅片的影响?3,硅烷对硅片的影响?4,氨气对硅片的影响?5,RF功率与脉冲对硅片的影响?如果硅片发白怎 CVD（化学气相沉积）的原理及应用是什么 气相沉积法的应用 化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜的反应原理化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜,其反应原理为什么?要化学方程式 什么是化学气相沉积法?它对对原料,产物和反应类型的要求有哪些 如果用化学气相沉积法在硅片上镀铝,请问最大厚度能够达到多少? 气相色谱仪辅助气的左右是什么?注意,不是载气,是辅助气的作用,一般为氮气. 物理气相沉积涂覆工艺是什么 物理气相沉积法制膜包括哪些基本过程 请问气相色谱中辅助气体有何用?