三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/09/02 16:48:35
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
B C D
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B:还原产物是NO 氧化产物是 HNO3 氧化剂被还原得到还原产物 ,还原剂得到氧化产物
还原剂与氧化剂的物质的量之比为 HNO3:NO==1:2 B错
C +3到+5 0.2*2=0.4 mol C错
D 对 NO被空气氧化后就是NO2 红棕色
选D
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂B.还原剂与氧化
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