化学刻蚀如何出缓坡
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/08/30 07:17:51
化学刻蚀如何出缓坡
化学刻蚀如何出缓坡
化学刻蚀如何出缓坡
一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法,包括:A.在基片上涂敷介质层;B.在高温下固化;C.旋涂光刻胶;D.光刻、显影,制作倒梯形剖面的光刻胶;E.用含有氧气的等离子体进行干法刻蚀,得到正梯形剖面的介质缓坡.本发明利用反转胶和负性光刻胶等能形成倒梯形剖面的光刻胶,胶的侧面可控性好,由于介质缓坡能较好控制,可提高金属爬坡的边缘可控性,提高器件的成品率和增加电路的电流的处理能力
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