硅片的湿法刻蚀光刻以后,想把曝光的图形刻蚀掉,怎么弄?

硅片的湿法刻蚀光刻以后,想把曝光的图形刻蚀掉,怎么弄? 如何通过湿法刻蚀控制Mo/Al的坡度角?如何解释坡度角变化与刻蚀液的关系? 为什么在待刻蚀硅片的两边,分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板,叠放整齐, 湿法刻蚀 WET前些日子被分到湿法刻蚀的WET工作 .听说 会接触到很多化学品.是真的吗 那么危险吗? 光刻曝光技术的主要流程及每个步骤的意义 什么是湿法刻蚀 打印机的 光刻工艺 芯片内的硅片到底是怎样做的?好像硅芯片是用高精密的光刻技术刻出来的,不过硅片上的元件是一个个做好了再焊上去的（开个玩笑）,还是直接刻成的? 什么是光刻胶以及光刻胶的种类 光刻胶匀胶后为什么要去除掉边缘的光刻胶 光刻胶~光刻胶的概念是什么?光刻胶的概念是什么? 半导体工艺难题!1,现在先进集成电路光刻工艺中曝光光源的波长为193nm或157nm,根据现代光学理论,曝光光刻胶的分辨率大约等于波长.然而,现在,在45nm器件工艺中,使用的曝光光源仍然是193nm光源 硅片和太阳能硅片的差异? 请问各位湿法刻蚀有什么缺点? 清洗硅片的顺序 简述光刻的工艺过程（步骤） 试述光刻加工的主要阶段 使用光刻胶的客户有哪些