太阳能硅片清洗过程中所使用的清洗剂的成分是什么呢?知道的朋友帮忙回答下哦,
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/11/09 10:20:51
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一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗.清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去;用超纯水冲洗后,再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4O
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请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?超声起作用需要一个过程吗?什么因素会影响超声波的正常工作?
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