磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/08/28 01:46:39
磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?
磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?
即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?
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问得挺有意思.因为任何真空设备都会有漏气,如果按楼主那样做,里面的氧浓度已经惨不忍睹了.
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磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?不知为
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