下列关于卤素的叙述,正确的是A单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深B氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强C单质与水反应均和表示为X2+H2O=HX+HXOD随核电荷数的增加卤素离子半径递增,
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/08/29 06:41:39
下列关于卤素的叙述,正确的是A单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深B氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强C单质与水反应均和表示为X2+H2O=HX+HXOD随核电荷数的增加卤素离子半径递增,
下列关于卤素的叙述,正确的是
A单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深
B氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强
C单质与水反应均和表示为X2+H2O=HX+HXO
D随核电荷数的增加卤素离子半径递增,还原性递减
下列关于卤素的叙述,正确的是A单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深B氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强C单质与水反应均和表示为X2+H2O=HX+HXOD随核电荷数的增加卤素离子半径递增,
A对,随着核电核数的增加其氧化性在减弱,活泼性减弱.更稳定.
B错,从上到下半径变大的同时,非金属性在减弱,氢化物的稳定性和非金属性成正比.
C错.单质F2 2F2+2H2O=4HF+O2
D错.单质的氧化性在减弱,而对应的低价离子的还原性在增强.
我觉得应该是b~
A单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深
B氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强
是减弱
C单质与水反应均和表示为X2+H2O=HX+HXO
F2不是,直接放出O2
D随核电荷数的增加卤素离子半径递增,还原性递减
是氧化性减弱
5.下列关于卤素的叙述,正确的是5.下列关于卤素的叙述,不正确的是 A.单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深 B.氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强是不是AB都错了?
关于卤素的下列叙述正确的是?A.卤素只以游离态存在于自然界中B.随荷电核数增加,单质熔点升高C.随荷电核数增加.单质氧化性增强D.单质与水反映.均可用通式X2+H2O→HX+HXO
下列关于卤素的叙述,正确的是A单质的稳定性随核电荷数的增加逐渐加深B氢化物的稳定性随核电荷数的增加逐渐增强C单质与水反应均和表示为X2+H2O=HX+HXOD随核电荷数的增加卤素离子半径递增,
下列关于卤素的叙述,正确的是A 卤化银都不溶于谁,也不溶于酸B 新制的氯水所含的成分少,而久置的氯水所含成分多C 卤素单质X2 与水反应都符合通式 X2+H2O=====HX+HXOD 随核电荷数的增加X的
关于卤素(用X表示)下了叙述正确的是A卤素单质与水反应均可表示为x2+H20=HXO+HXB,HX都极易溶于水,它们的热稳定性随X的核电荷数增大而增强C,卤族元素单质的颜色从F2到I2按式量增大而加深D,X-的
卤素单质的稳定性主要是氯气和碘单质谁更稳定
下列关于卤化氢的说法不正确的是() a卤素原子半径越大,氢化物越稳定 b卤素原子半径越大,氢化物越不...下列关于卤化氢的说法不正确的是()a卤素原子半径越大,氢化物越稳定b卤素原子
下列关于硅的用途,叙述正确的是 A 硅单质可做半导体材料 B硅是光导纤维的主要成分 C硅可做绝缘体下列关于硅的用途,叙述正确的是A 硅单质可做半导体材料B硅是光导纤维的主要成分C硅可做
卤素单质的性质
随着卤素原子核电荷数的增加,下列递变规律正确的是 ( ) A 单质熔沸点降低 B气态氢化物稳定性降低C卤素原子的还原性逐渐增强为什么C 错了
随着卤素原子核电荷数的增加,下列递变规律正确的是 ( )A 单质熔沸点降低 B气态氢化物稳定性降低 C卤素原子的还原性逐渐增强 为什么C 错了
随着卤素原子核电荷数的增加,下列递变规律正确的是 A.单质的熔沸点逐渐降低 B.气态氢化物稳定性逐渐降低 随着卤素原子核电荷数的增加,下列递变规律正确的是A.单质的熔沸点逐渐降低B.气
下列关于性染色体的叙述,正确的是.
下列关于细胞的叙述 正确的是
下列关于植物细胞呼吸的叙述,正确的是
下列关于计算机病毒的叙述中,正确的一条是
关于兴奋的传导,下列叙述正确的是
下列关于酶的叙述中,正确的是( )